Rafitra Sputtering Vacuum Ny Rafitra Sputtering Vacuum Avo Lenta dia milina mametaka rambin-taova (thin films) metaly sy dielektrika eo amin'ny fototra (substrates) mihatra 300 milimetatra. Ny rafitra dia mampiasa loharanon-tsafidina magnetron ampahery amin'ny al脿lan'ny fandrifiana radio, herinaratra mivantana na herinaratra mivantana mikitroka, izay miasa amin'ny fomba tokana na amin'ny fomba fametahana miaraka (co-deposition mode). Firafitra modiolara no mamela fametrahana, fitaterana ary fikojakojana tsotra. Ny fonony dia vita amin'ny vy vita fanaovana mangatsiaka miaraka amin'ny fanodinana takela-by sy fanalofana amin'ny famafazana, misy rafitra anaty aliminioma ary fonony akrilika mangamanga malama. Ny efijery fanaraha-maso dia manaraka ireo fitsipika erg么nomika.
Anaran'ny tetikasa : Ultra High Vacuum Sputtering System, Anaran'ny mpamorona : Yong Zhang, Anaran'ny mpanjifa : Huaiyin Institute of Technology & Liaoning Petrochemical University.
Ity endrika tsara ity dia mpandresy amin'ny loka al脿lan'ny famolavolana varahina amin'ny fifaninanana maritrano, fananganana trano ary fananganana firafitra. Tokony ho hitanao tokoa ny portfolio-design volavin'ireo mpanaingo ny fanomezana al脿lan'ny marika famoronana endrika marisialy vaovao, mahomby, tany am-boalohany ary famoronana endrika.
